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昕辉科技:关于薄膜开关技术前景的展望
　薄膜开关技术本质上是制备二维结构的技术，有可能成为制备模型催化剂规定表面的方法，但在现阶段对开发实用催化剂还难以直接应用。像外延和合成人工晶格那样, **控制结构，使材料本身特性能得以充分发挥。现在利用薄膜技术控制微细结构和组成，成为Ga,GaAs,GaP等半导体电子材料为对象的研究中心。 

　但对催化关系大的金属、金属氧化物、金属硫化物等材料的资料的积累还不充分，将应**进行研究。但是，对于作为催化研究对象的各个物质，如果确立了**控制结构技术，利用结晶研究“不同反应性”,"Partcle size cffect","Support effect","Strong met-al-support interaction”等，就有可能提供理想模型表面，特别是利用来合成人工晶格。 

　　至今，依赖于热力学的制备方法，即使合成了具有*新性质的物质，但其表面结构与组成仍不易被了解。因此，利用物理学中成熟的薄膜技术，对于促进催化科学深人研究具有重大意义。